刻蚀机与光刻机哪个厉害

刻蚀机与光刻机各有专长，无法简单比较谁更厉害。光刻机是芯片制造的核心设备，精度达到纳米级别，荷兰ASML的EUV光刻机能生产7纳米以下芯片。刻蚀机负责在晶圆上精确刻蚀电路图案，应用材料公司的刻蚀设备可实现3纳米制程。光刻机决定芯片的最小线宽，刻蚀机确保电路图案的精确复制。两者缺一不可，共同决定芯片性能。

光刻机技术难度极高，集成了全球超过5000家供应商的零部件，一台EUV设备价值超过1.5亿美元。刻蚀机则要求极高的均匀性和选择性，东京电子的刻蚀设备能在300毫米晶圆上实现原子级精度。光刻机市场被ASML垄断，刻蚀机领域则有应用材料、泛林半导体等多家竞争。两种设备代表了不同技术巅峰，分别解决芯片制造中的不同关键问题。