光刻胶是什么成分

光刻胶主要由光敏树脂、感光剂和溶剂三部分组成。光敏树脂提供骨架结构，感光剂对特定波长光线敏感，溶剂则帮助调整胶体粘度。实际应用中，正性光刻胶含有酚醛树脂，负性光刻胶则常用环氧树脂。工业生产上，KrF光刻胶使用萘醌类感光剂，而EUV光刻胶需要金属氧化物颗粒增强吸收效果。半导体制造中，248nm和193nm光刻胶成分差异明显，前者以丙烯酸酯为主，后者多含硅基材料。

光刻胶配方还包含少量添加剂改善性能。增塑剂能提高柔韧性，稳定剂延长保存期限，表面活性剂则改善涂布均匀性。高端制程中，化学放大光刻胶含酸产生剂，曝光后经热处理引发化学反应。5nm以下工艺使用的光刻胶需添加金属氧化物如氧化铪，提高对EUV光的吸收效率。汽车电子用光刻胶则注重耐高温特性，添加特殊树脂确保焊接过程不变形。