光栅制造的工艺过程是什么

光栅制造需要高精度加工技术。现代工艺中，激光干涉仪控制激光束在光敏玻璃表面刻划出数万条平行凹槽。光刻胶涂覆在基板上后，通过曝光显影形成图案。离子束刻蚀技术将图案转移到基材上，形成周期性结构。光栅线距精度达到纳米级别，衍射效率超过85%。光学抛光确保表面粗糙度低于5纳米，保证光线均匀反射。不同类型光栅采用不同工艺，反射光栅需镀铝层，透射光栅则需特殊涂层处理。

光栅制造涉及多个精密工序。机械刻划法使用钻石刀具在金属表面直接刻出凹槽，线密度可达每毫米2400条。全息光栅通过两束相干激光干涉产生明暗条纹，记录在光刻胶上。复制工艺先制作母光栅，再通过电铸形成镍模，最后注塑成型批量生产。光栅刻槽角度需精确控制，闪耀光栅的槽形角度决定特定波长的衍射效率。质量检测环节使用干涉仪测量波前误差，合格产品需满足光学系统设计要求。