光刻机是怎么样的

光刻机是半导体制造的核心设备，精度达到纳米级别。荷兰ASML的EUV光刻机使用13.5纳米极紫外光，每小时能处理200片晶圆。机器重达180吨，包含超过10万个零件，需要40辆集装箱卡车运输。台积电3纳米工艺依赖这种设备，每台售价超过1.5亿欧元。光刻机通过掩模版将电路图案投射到硅片上，一次曝光可形成数十亿个晶体管。三星、英特尔等厂商排队等待交付，交货周期长达两年。

光刻机工作环境要求苛刻，必须在恒温恒湿的洁净室内运行。空气中的尘埃颗粒必须控制在每立方米10个以下。光源系统由德国蔡司提供，精度误差小于1纳米。台积电5纳米制程需要叠加7层光刻胶，每层都需要精确对位。机器每小时消耗电力相当于一个中型家庭的用电量。一台高端光刻机每天能生产价值数百万美元的芯片，是现代科技产业的基石。