光刻机很难发明吗

光刻机确实极其难发明。这台设备包含超过10万个精密零件，需要在纳米级别精确控制光束。荷兰ASML公司研发EUV光刻机耗时20年，投入超过100亿美元。制造过程中需要克服极紫外光源、高精度反射镜和真空环境等挑战。日本尼康和佳能也投入巨资研发，但只有ASML成功量产最先进机型。光刻机的技术壁垒极高，涉及光学、精密机械、材料科学等多个领域顶尖技术的融合。

光刻机维护同样困难。一台设备运行时内部温度需控制在0.01摄氏度范围内，任何微小偏差都会影响晶圆质量。操作人员需要经过6个月专业培训才能熟练操作。每台设备每天能处理约150片晶圆，但故障率必须低于0.001%。更换一个关键部件需要停机48小时，每次维护成本高达50万美元。全球仅有少数企业具备维护能力，技术支持团队通常由20名以上专家组成。