时间:09-17人气:25作者:一花一世界
ASML公司生产9纳米光刻机。这家荷兰企业拥有全球最先进的光刻技术,其EUV光刻机能够制造7纳米及以下制程芯片。ASML的设备包括TWINSCAN系列,如NXE:3600D型号,支持高数值孔径系统,精度达到原子级别。英特尔、台积电、三星等芯片制造商都依赖ASML的设备生产先进芯片。ASML每年投入数十亿欧元研发,保持技术领先地位。
中国上海微电子装备(SMEE)也在研发纳米级光刻机。SMEE的SSA800/10W型号光刻机已实现28纳米制程,正在向更先进技术突破。中国"02专项"支持国产光刻机发展,目标是实现14纳米以下制程。SMEE的设备主要用于国内半导体企业,如中芯国际和华虹宏半导体,减少对进口设备的依赖。国产光刻机技术进步迅速,部分性能指标已接近国际水平。
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