芯片光刻机是哪个国家发明的

芯片光刻机最早由荷兰公司ASML研发制造。这家企业成立于1984年，总部位于费尔德霍芬。ASML的光刻机集成了美国、德国、日本等多国技术，但核心研发和组装都在荷兰完成。EUV光刻机代表当今最高水平，全球仅有ASML能生产。台积电、三星、英特尔等顶级芯片厂都依赖ASML设备。一台EUV光刻机售价超过1亿欧元，包含超过10万个零件，需要数月时间组装。

光刻技术发展历程跨越多个国家。美国GCA公司在1970年代推出首个商业光刻系统。德国蔡司公司提供关键光学镜头，精度达到原子级别。日本尼康和佳能也曾是光刻机制造巨头，但市场份额逐渐被ASML超越。荷兰政府通过长期研发支持，帮助ASML成为行业领导者。光刻机制造需要全球5000多家供应商合作，体现了现代高科技产业的全球化特点。