同步辐射光源能用于光刻机吗

同步辐射光源确实能用于光刻机，特别是在极紫外光刻领域。同步辐射光源产生的高亮度、窄带宽的极紫外光波长为13.5纳米，满足先进制程需求。实际应用中，美国国家同步辐射光源II和德国电子同步辐射中心都成功演示了同步辐射光源用于光刻技术。这些设备能提供稳定的光束，支持7纳米及以下制程的芯片制造。同步辐射光源的高相干性和准直性使光刻图案更加精确，大幅提升芯片良率。

同步辐射光源在光刻领域的优势还体现在能量稳定性上。普通激光光源能量波动较大，影响光刻精度，而同步辐射光源的能量波动控制在0.1纳米以内。荷兰阿姆斯特丹自由大学的实验显示，使用同步辐射光源的光刻机分辨率达到8纳米，远超传统光源。这种光源还具备可调谐性，能根据不同制程需求调整波长，满足5纳米、3纳米甚至更先进节点的制造要求。