中国研制光刻机的企业

中国光刻机研制领域，上海微电子装备(SMEE)是领军企业，已量产90nm光刻机，正在研发28nm设备。华卓精科专注于双工件台技术，为ASML提供核心部件。中科院光电院研发的EUV光刻机原型机取得突破。北方华创提供刻蚀机等配套设备，中芯国际是国内最大光刻机用户。这些企业通过产学研合作，逐步突破光刻机关键技术，中国光刻机产业链正在形成完整体系。

光刻机研发需要大量资金投入，国家集成电路产业基金已投资数百亿元支持相关企业。合肥芯碁微电子专注于直写光刻设备，应用于PCB制造。江苏迈为股份开发的光刻设备用于太阳能电池生产。北京国望光学研发的光学系统达到国际先进水平。武汉精测电子的检测设备确保光刻精度。这些企业各有所长，共同推动中国光刻机技术进步，减少对国外设备的依赖。