光刻机最早是什么国家研发的

光刻机最早由荷兰公司ASML研发成功。这家企业成立于1984年，最初是由飞利浦和ASM International合资成立的。ASML在1995年推出了其第一台深紫外光(DUV)光刻机，标志着现代光刻技术的开端。荷兰在光刻机领域的领先地位持续至今，ASML目前生产着全球最先进的光刻设备，其极紫外光(EUV)光刻机能够制造7纳米及以下工艺的芯片，全球主要芯片制造商都依赖这些设备。

光刻技术起源于20世纪70年代的美国。IBM公司在1970年代率先开发了投影式光刻技术，这为后来的光刻机奠定了基础。美国GCA公司生产的4800DSW光刻机在80年代成为行业标准设备。日本尼康和佳能随后进入市场，在90年代占据了主导地位。荷兰ASML通过创新的浸润式光刻技术后来居上，最终成为全球光刻机市场的领导者，这一技术演进过程展现了全球半导体制造设备的竞争格局变化。